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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
plasma清洗機產生的顆粒與什么有關： plasma清洗機的作用下，難粘塑料表面會產生一些活性原子、自由基和不飽和鍵，這些活性基團會與等離子體中的活性粒子接觸，從而產生新的活性基團。但...
發布時間:2022-12-07
等離子處理器與催化劑的C-H鍵和C-O鍵：（1）催化劑對反應物有活化作用。催化劑通過吸附作用活化反應物，促使反應物轉化。催化作用下CH4活化及轉化機理研究顯示吸附于催化劑活性中心的CH4C-H鍵因反鍵σ*軌道電子填充...
發布時間:2022-12-06
低溫plasma與高溫plasma在行業里怎么區分： 低溫plasma與高溫plasma的區別在于離子的溫度和離子通道。低溫等離子體電子運動溫度高達10~10K，而氣體的離子和中性離子溫度接近環境溫度，遠...
發布時間:2022-12-05
用CRF真空等離子設備是CH4氧化偶聯反應的優良催化劑： 在crf真空等離子設備作用下進行CO2氧化CH4轉化加入催化劑的目的是提高經濟價值較高的C2烴的收率，因此提高C2烴選擇性及C2烴收率就...
發布時間:2022-12-02
誠峰等離子表面處理器的清洗的反應原理哪幾個？ 物理反應(離子轟擊)和化學反應可分為等離子體與固狀表面的作用。物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污物脫離表面最后被真空泵抽走...
發布時間:2022-12-01
