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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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等離子體是怎樣提高金屬表面附著力的?

       等離子體是怎樣提高金屬表面附著力的?等離子體中存在大量的氣體分子、電子和離子,還有大量被激發(fā)的中性原子、原子團(tuán)自由基以及等離子體所發(fā)射的光。離子、電子、受激原子、自由基和它們的射光等離子體清洗過(guò)程中,分別與被清潔表面的污染物分子分別發(fā)生活化反應(yīng),使污染物最終被清除。

等離子體


       電漿清洗機(jī)是利用等離子體中的高能粒子和活性粒子,通過(guò)轟擊或活化反應(yīng)作用來(lái)達(dá)到清除金屬表面污物的目的。電漿清洗過(guò)程不需化學(xué)試劑,因此不會(huì)造成二次污染,清洗設(shè)備可重復(fù)性強(qiáng),因此設(shè)備運(yùn)行成本較低,且操作靈活簡(jiǎn)單,能夠?qū)崿F(xiàn)金屬表面整體或某些局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗;一些經(jīng)過(guò)等離子體清洗后的表面性能還可以得到改善,有利于隨后金屬的加工應(yīng)用。
       電漿清洗機(jī)主要依靠等離子體中的電子、離子、激發(fā)態(tài)原子、自由基等活性離子,使金屬表面有機(jī)污染物的大分子逐步分解,最終產(chǎn)生穩(wěn)定、易揮發(fā)的、簡(jiǎn)單的小分子,最終將粘附在表面的污物徹底脫離。金屬表面的附著力和表面潤(rùn)濕性能在很大程度上改善等離子體清洗后的表面潤(rùn)濕性,而這些性能的提高對(duì)金屬材料的進(jìn)一步表面處理具有重要意義。伴隨著高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,等離子體清洗技術(shù)的應(yīng)用日益廣泛,目前已廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、光電等高科技領(lǐng)域。

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