20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家
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CRF等離子處理器接枝量均與分子量呈正比關系: crf等離子處理器引起機制的PP薄膜表層及等離子體氣氛中而且存在著活性種，而在過氧化物引起體系中，由于過氧化物的均裂，PP薄膜表面的自由基...
發(fā)布時間:2022-11-02
CRF等離子蝕刻機ICP蝕刻技術應用廣泛SiC刻蝕應用： 反應燒結(jié)碳化硅(RB-SiC)是一種新型陶瓷材料，其具有性能好、比剛度高、導熱性大、膨脹系數(shù)小的特點.隨著光學技術的快速發(fā)展，光...
發(fā)布時間:2022-10-29
plasma有著足夠的能量斷開生物質(zhì)原料中的化學鍵： 隨著全世界對生物質(zhì)能煉制的深人研究，新的生物煉制工藝不斷涌現(xiàn)，低溫等離子體工藝以特有的化學活性和高能態(tài)成為有著前景的生物質(zhì)能煉...
發(fā)布時間:2022-10-25
半導體領域有陶瓷封裝、引線鍵合等工藝需要用到等離子體設備： 等離子體設備有很多種叫法，其中常見的是等離子清洗機、活化機、電漿機還有plasma清洗機等等，它的作用實際也不是清洗污垢...
發(fā)布時間:2022-10-22
PTFE不僅可以提高材料表面的粘接能力，還可以通過的真空等離子設備來實現(xiàn):1.真空等離子設備低溫等離子體蝕刻：在低溫等離子體蝕刻的整個過程中，被蝕刻的物體會變成氣相。使用機械泵排出多余的產(chǎn)物，并繼續(xù)用新鮮氣...
發(fā)布時間:2022-10-15CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2025
