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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
plasma表面清洗設備常用的幾種功能作用： 1、plasma表面清洗設備激活金屬： 盡管金屬被激活，但等離子表面處理設備激活過程非常不穩定，所以有效時間很短。...
發布時間:2022-12-12
為什么crf電漿清洗機處理須要真空環境下，其原理是什么？ crf電漿清洗機須要引進真空環境的原因很多，但實質上，具體有好幾個因素:引進真空室的氣體在壓力環境中不會電離，在充入氣體電離...
發布時間:2022-12-09
plasma原子團化學反應在多晶硅工業行業的應用研究： 化學反應即原子或原子團層面的重新組合，需要外界提供必要的反應活化能。相對plasma而言，工業生產的反應物質多呈密集的凝聚態。參加...
發布時間:2022-12-05
測試表明:crf等離子火焰處理機與NiO/Y-Al203催化機理： crf等離子火焰處理機與負載型調整金屬氧化物催化劑聯合作用對產物C2、CO生成過程影響不同。Na2WO4/Y-Al2O3具有很高的C2烴收率(17....
發布時間:2022-12-02
”干式”清潔-等離子體表面處理設備的高效表層清潔: 干式等離子前處理塑料、鋁甚至玻璃的后期噴涂工藝開創了最理想的表層條件。 等離子清洗是一類”干式”清潔過程，...
發布時間:2022-12-01
