材料表面plasma等離子設(shè)備是為了讓等離子體與材料表面接觸，在PLASMA影響下改變材料表面特性。等離子體表面處理通常采用非聚合性氣體如Ar、N2、H2、O2等，進(jìn)行等離子體表面處理作用。
電子在等離子體活性粒子中質(zhì)量小、運(yùn)動(dòng)速度快、能量高。電子和表面的分子間作用力主要的表現(xiàn)有三種：電子轟擊引起的二次電子發(fā)射，電子轟擊物體表面促使物體表面的吸附分子解離和電子誘導(dǎo)的化學(xué)反應(yīng)等。

       離子和表面反應(yīng)分為3類：離子在物體表面的復(fù)合和離子入射物體表面引發(fā)二次電子發(fā)射、離子注入物體表面內(nèi)部將動(dòng)量傳遞給晶格原子致使晶格原子激發(fā)或電離，入射離子被物體表面反射或捕獲同時(shí)入射離子的轟擊還可能是物體表面濺射出粒子、離子誘導(dǎo)表面化學(xué)發(fā)應(yīng)等。
       氧自由基和原子與表面的分子間作用力，主要是氧自由基和原子易被化學(xué)吸附在對其母體分子呈惰性的表面上。對于電子碰撞激發(fā)的亞穩(wěn)態(tài)分子易被解激發(fā)，解激發(fā)有可能導(dǎo)致化學(xué)反應(yīng)和脫附。
       材料表面plasma等離子設(shè)備清洗屬于干式工藝，可以節(jié)省能源、無公害。同時(shí)等離子體可以處理各種形狀的材料，其處理時(shí)間短、效率高。另外，材料表面等離子處理僅限于表面幾到幾百個(gè)納米的范圍內(nèi)，在改善材料表面性能的同時(shí)不改變材料本質(zhì)特性。