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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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制鞋廠的鞋底用等離子表面處理可以延長(zhǎng)脫膠時(shí)間

制鞋廠的鞋底用等離子表面處理可以延長(zhǎng)脫膠時(shí)間:
       現(xiàn)在制鞋廠越來越環(huán)保了。各種新工藝不斷應(yīng)用于其中。CRF等離子體表面處理也慢慢備受各地制鞋廠的喜愛。與此同時(shí),等離子表面處理機(jī)可加進(jìn)流水線生產(chǎn),增強(qiáng)運(yùn)作效率和速度!
       在原鞋中,鞋底,鞋底和鞋面之間的粘接比較麻煩,需要對(duì)鞋底進(jìn)行打磨,以確保每個(gè)粘接面都是一個(gè)新的粘接面,從而確保粘接相對(duì)牢固;與此同時(shí),許多苯被用于舊的處理方法,如,甲苯、丙酮、二氯甲烷和其他有機(jī)粘合劑和處理器。這些化合物易揮發(fā),不安全,不環(huán)保;而使用等離子表面處理要方便得多。只有在粘合前清潔所需部位,就能使粘合更加牢固。與此同時(shí),整個(gè)過程無污染,更環(huán)保;它還可以添加到生產(chǎn)線中,使操作更容易,有效提高生產(chǎn)效率!

 等離子表面處理

       等離子體是一種物質(zhì)的存在狀態(tài),通常存在于固體、液體和氣體三種狀態(tài),但在某些特殊情況下存在第四種狀態(tài),如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在以下物質(zhì):高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)下的電子;激活狀態(tài)下的中性原子、分子、原子組(自由基);離子原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但整體物質(zhì)仍保持電中性狀態(tài)。
       在真空腔中,在特定的壓力下,經(jīng)過射頻電源產(chǎn)生高能無序等離子體,經(jīng)過清潔產(chǎn)品表面.以達(dá)到清潔的目的。等離子體,如固體、液體或氣體,是一種物質(zhì)的狀態(tài),也被稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。在氣體中施加足夠的能量使其離化為等離子體狀態(tài)。等離子體”活性”成分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)狀態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子表面處理通過這些活性成分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而達(dá)到清潔、改性、光刻膠灰化的目的。

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